✍️ Gate 廣場「創作者認證激勵計劃」優質創作者持續招募中!
Gate 廣場現正面向優質創作者開放認證申請!
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📕 認證申請步驟:
1️⃣ 打開 App 首頁底部【廣場】 → 點擊右上角頭像進入個人主頁
2️⃣ 點擊頭像右下角【申請認證】,提交申請等待審核
注:請確保 App 版本更新至 7.25.0 或以上。
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📅 活動自 11 月 1 日起持續進行
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活動詳情:https://www.gate.com/announcements/article/47889
ASML展示首款先進封裝大視場光刻機
金十數據11月7日訊,在第八屆進博會上,半導體設備供應商ASML展示其部分全景光刻產品與技術。其中,DUV光刻機包括TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。TWINSCAN XT:260這款i-line光刻機是ASML首款可服務於先進封裝領域的光刻系統,具有大視場曝光,相較於現有機型可提高4倍生產效率;TWINSCAN NXT:870B在升級的光學器件和最新一代磁懸浮平台的支持下,可實現每小時晶圓產量(wph)400片以上。